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    Photomask clean 清洗机

     

    最大适应方形基片尺寸:8×8inch基片用途:可用于掩膜版表面污染物的清除。
    清洗方式:是由电机通过夹持机构带动掩膜板做离心式旋转。
    配合常压水清洗
    高压水清洗
    兆声波清洗
    毛刷(Brush)清洗
    有机溶剂清洗等方式作用:其中0.5微米以上颗粒的去除率接近100%。
    再小于的颗粒去除率可根据客户要求提供技术指标。

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