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Photomask clean 清洗机
来源: 本站原创 作者:佚名 发布时间:2019-07-16 13:24:51
最大适应方形基片尺寸:8×8inch基片
用途:可用于掩膜版表面污染物的清除。
清洗方式:是由电机通过夹持机构带动掩膜板做离心式旋转。
配合常压水清洗
高压水清洗
兆声波清洗
毛刷(Brush)清洗
有机溶剂清洗等方式
作用
:其中0.5微米以上颗粒的去除率接近100%。
再小于的颗粒去除率
可根据客户要求提供技术指标。
关闭
大头十三水
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