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Photomask clean 清洗机

来源: 本站原创作者:佚名发布时间:2019-07-16 13:24:51

最大适应方形基片尺寸：8×8inch基片用途：可用于掩膜版表面污染物的清除。

清洗方式：是由电机通过夹持机构带动掩膜板做离心式旋转。

 配合常压水清洗

 高压水清洗

 兆声波清洗

 毛刷（Brush）清洗

 有机溶剂清洗等方式作用：其中0.5微米以上颗粒的去除率接近100%。

再小于的颗粒去除率可根据客户要求提供技术指标。

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