• <nav id="26q2k"><strong id="26q2k"></strong></nav>

    无掩膜光刻直写设备 ---- MLA100

     

    工作方式:无掩膜直写

     配置高精度对准摄像机,套刻精度达1um以下

     最大接受衬底尺寸:6”x6”

     直写面积:125mm×125mm;

     光刻胶曝光灰度:128阶

     最小线宽:1um;

     制版直写速度在50x50mm下于50分钟完成,在

    100x100mm下于200分钟完成。

     线宽均匀度<300nm

    大头十三水 <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <蜘蛛词>| <文本链> <文本链> <文本链> <文本链> <文本链> <文本链>