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    URE-2000 系列双面光刻机

     

     ● 采用专利技术-积木错位蝇眼透镜消衍射技术和线条陡直增强技术,曝
      光图形质量好,光刻分辩力高。

    ● 采用国内首创的CCD图像底面对准,单曝光头正面曝光实现双面对准
      功能。

    ● 采用新颖的高精度,多自由度掩模一样片精密对准工件台结构,掩模与
      样片对准过程直观,套刻对准速度快,精度高样片的放置采用推拉式
      基准平板,真空吸附式,操作方便。

    ● 采用1000W长寿命型汞灯光源,曝光能量高,聚光角度小,光源稳定,
      持久。

    ● 支持真空接触曝光,硬接触曝光,压力接触曝光,接近式曝光四种曝光功能。
    ● 配备循环水冷却系统,照明面温度恒定。
    ● 具有纳米压印接口功能。
    ● 曝光面积:8英寸;对准精度:≤±2 μm(双面,片厚0.8mm)/0.8 μm(单面)。
    ● 掩模尺寸:4英寸、5英寸、7英寸、9英寸。
    ● 光刻分辨力:1 μm。
    ● 曝光方式:定时(倒计时方式0.1s-9999.9s任意设定)和定剂量。
    ● 最大胶厚:500 μm(SU8胶,用户提供检测条件)。
    ● 汞灯功率:1000W(直流,进口直流高压汞灯德国欧司朗)。
    ● 照明不均匀性:5%(Φ200mm 范围)。

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